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奇码(Magima)笔试题

10-15 23:59:20 来源:http://www.qz26.com 笔试题目   阅读:8239
导读:收集一:一.填空1.集成电路的分类,按材料,工艺2.集成电阻的计算,以及其制造工艺3.Vtp,Vtn的正负判断,分别对于增强型和耗尽型4.CMOS电路功耗包括哪两个部分,功耗设计主要考虑的因素……(还有几道不记得了)二.填表全定制,门阵列,FPGA各自单元模块,连线的性质……三.填图CMOS工艺流程填图画图四.问答1.CMOS单元负载较大的电容时,只有提高W,这样会使W*L增加,相对前级又时一个大电容,如何解决这一矛盾?2.结合软件谈谈全定制集成电路设计流程3.谈谈对Layout设计的看法五.翻版图或者画版图,选一第二卷1.什么是格雷码?2.Nyquist采样定例3.球一米高落下,每次探起一半,求路程和重力做功4.运算放大器1,…………2,有几级,各级之间耦合方式有几种,分析各种的优劣。收集二:1.画出NMOS的特性曲线(指明饱和区,截至区,线性区,击穿区和C-V曲线)2.2.2um工艺下,Kn=
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  收集一:

  一.填空

  1.集成电路的分类,按材料,工艺

  2.集成电阻的计算,以及其制造工艺

  3.Vtp,Vtn的正负判断,分别对于增强型和耗尽型

  4.CMOS电路功耗包括哪两个部分,功耗设计主要考虑的因素

  ……(还有几道不记得了)

  二.填表

  全定制,门阵列,FPGA各自单元模块,连线的性质……

  三.填图

  CMOS工艺流程填图画图

  四.问答

  1.CMOS单元负载较大的电容时,只有提高W,这样会使W*L增加,相对前级又时一个大电容,如何解决这一矛盾?

  2.结合软件谈谈全定制集成电路设计流程

  3.谈谈对Layout设计的看法

  五.翻版图或者画版图,选一

  第二卷

  1.什么是格雷码?

  2.Nyquist采样定例

  3.球一米高落下,每次探起一半,求路程和重力做功

  4.运算放大器1,…………2,有几级,各级之间耦合方式有几种,分析各种的优劣。

  收集二:1.画出NMOS的特性曲线(指明饱和区,截至区,线性区,击穿区和C-V曲线)

  2.2.2um工艺下,Kn=3Kp,设计一个反相器,说出器件尺寸。

  3.说出制作N-well的工艺流程。

  4.雪崩击穿和齐纳击穿的机理和区别。

  5.用CMOS画一个D触发器(clk,d,q,q-)


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